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ベルギーのimec、ASML製EXE:5200高NA EUV露光装置を導入
・ベルギーの世界的半導体研究機関imecは3月18日、ASML製EXE:5200 High NA(高開口数)EUV(極端紫外線)露光装置の導入を発表した。これによりimecとエコシステムパートナーは、先進AIや高性能コンピューティングの急成長を支えるサブ2nmロジックや高密度メモリ技術の開発に必要な性能を手に入れたことになる。
・imecは、EXE:5200 High NA EUV露光装置が2026年第4四半期までに完全に認定される....
・imecは、EXE:5200 High NA EUV露光装置が2026年第4四半期までに完全に認定される....
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