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比利时imec引进ASML EXE:5200高NA EUV光刻机
比利时全球半导体研究机构imec于3月18日宣布，引进ASML制造的EXE:5200 High NA高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机。此举使imec及其生态系统合作伙伴获得了开发亚2纳米逻辑芯片和高密度存储技术所需的性能，从而能够支持先进AI和高性能计算领域的迅猛发展。
imec预计，EXE:5200高数值孔径极紫外光刻机将于2026年第四季度前完成全面认证。在此期间，位于荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）的AS....
imec预计，EXE:5200高数值孔径极紫外光刻机将于2026年第四季度前完成全面认证。在此期间，位于荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）的AS....
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