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レゾナック、山形にSiCウェハー生産工場を着工
・レゾナックは、同社の山形工場内にパワー半導体向けの炭化ケイ素(SiC)ウェハー(基板・エピタキシャル)の生産建屋を建設開始したと発表した。建築面積は5,832平方メートルで、竣工は2025年第3四半期を予定している。(2024年9月13日付プレスリリースより)
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